當前位置：
玉科到貨：AHP20 日本輕金屬（NLM）AHP 高純氧化鋁系列中的基礎原粉型號
更新時間：2026-09-30
點擊次數：160
到貨公告
各位客戶、合作伙伴：大家好！
我司新一批 AHP20 日本輕金屬（NLM）AHP 高純氧化鋁系列中的基礎原粉型號 已完成入庫、檢驗、上架工作，目前庫存充足，可正常接單、發貨。
AHP20 是日本輕金屬（NLM）AHP 高純氧化鋁系列中的基礎原粉型號，純度達到 99.99%（4N）以上。它在保持高純度的同時，提供了良好的成本效益，是許多工業應用的通用選擇。
?? 核心技術參數
| 參數項 | 規格數值 |
|---|---|
| Al?O? 純度 | ≥ 99.99% (4N) |
| Na（鈉）含量 | 20 ppm（關鍵堿金屬雜質） |
| Si（硅）含量 | 8 ppm |
| Fe（鐵）含量 | 2–3 ppm |
| Ca（鈣）含量 | 1 ppm |
| Mg（鎂）含量 | 1 ppm |
| 平均粒徑 | 30 μm（團聚體粒徑） |
| α晶粒尺寸 | 0.2–0.4 μm（一次晶粒，決定燒結活性） |
| BET比表面積 | 3.5–4.5 m2/g |
| 松裝密度 | 0.7 g/cm3 |
?? 制造工藝與核心特點
AHP20 的生產始于 NLM 自1941年起積累的拜耳法（Bayer process）技術。其制造流程并非簡單的粉碎，而是通過溶解—凈化—析出—煅燒—洗滌的化學路徑實現純度控制。
核心特點：
“原粉"定位：AHP20 是未經特殊造粒或深度研磨的基礎粉體，平均粒徑 30 μm 實際是 α 晶粒的團聚體尺寸，而真正決定其性能的是 0.2–0.4 μm 的一次 α 晶粒。
燒結活性基礎保障：雖然比表面積（3.5–4.5 m2/g）低于 AHP200（6.0–6.2 m2/g），但 0.2–0.4 μm 的細小 α 晶粒仍賦予了它合格的燒結驅動力，適用于對成本敏感但純度要求高的場景。
純度與成本的平衡：Na 含量控制在 20 ppm，足以滿足多數陶瓷和玻璃應用對堿金屬的容忍度，同時避免了 AHP30/AHP300 更高純度帶來的成本上升。
?? 典型應用場景
AHP20 的推薦用途覆蓋了從電子到工業的多個領域：
磁記錄介質：作為磁帶、磁盤等磁記錄材料的原料，高純度保證了磁性能的穩定。
單晶（藍寶石等）：作為藍寶石長晶的原料之一，AHP20 的純度足以支撐晶體生長，但若需優化坩堝填充效率，通常會搭配 AHP300 系列的造粒品使用。
透光性陶瓷：用于需要光學透明性的陶瓷部件，高純度可減少光散射中心。
熒光材料：作為熒光粉的合成原料，雜質含量低有助于提高發光效率。
熱噴涂材料：用于制備耐磨、耐腐蝕的氧化鋁涂層。
工程陶瓷：用于制造機械密封、耐磨襯板、切削工具等結構陶瓷部件。
我司將持續保障貨源穩定、供貨及時，竭誠為大家提供優質的產品與服務。
如需詢價、訂購、索取產品資料及資質文件，可隨時與我司對接人員聯系。
品牌負責人：林經理
玉崎科學儀器（深圳）有限公司
2026年9月30日
