Otsuka大塚電子光譜干涉法晶圓厚度計

Otsuka大塚電子光譜干涉法晶圓厚度計

一、品牌與原理

• 品牌：大塚電子株式會社 (Otsuka Electronics)，日本光學測量儀器大廠

• 測量原理：光譜干涉法 (Spectral Interference) —— 非接觸、非破壞、高精度

• 核心定位：厚膜 / 晶圓在線測厚（區別于薄層膜厚儀），主打 高速、長工作距、產線集成

二、型號與測量范圍（SF-3 系列）

三、核心參數（關鍵）

• 重復精度：±0.01% 以下（高穩定性）

• 快采樣：5 kHz (200 μs / 點)，實時監控

• 工作距離 (WD)：3 ~ 200 mm（可穿保護膜 / 玻璃）

• 光點直徑：φ20 ~ 27 μm（微小光斑）

• 通信：LAN (TCP/IP)、I/O 觸發，適合產線集成

• 尺寸：123 × 224 × 128 mm（緊湊型）

四、主要特點

1. 在線實時監控：晶圓背面研磨（Backgrind）、CMP 過程厚度閉環控制

2. 穿透測量：可穿過保護膜、玻璃窗口直接測基底厚度

3. 多層分析：支持臨時鍵合晶圓 雙層厚度 分離測量

4. 長工作距：安裝靈活，不怕碰撞、耐粉塵

5. 高速響應：適配高產能半導體設備

五、典型應用

• 硅晶圓 (Si wafer)、化合物半導體（GaAs、SiC）厚度測量

• 300 mm / 450 mm 晶圓、TSV 晶圓背面減薄監控

• 玻璃基板、樹脂厚膜、封裝層厚度在線檢測

• 可集成到：研磨機、拋光機、EFEM、機械手平臺

六、采購渠道（中國）

• 日本大冢電子代理商：玉崎科學儀器（深圳）有限公司（Tamasaki Scientific）