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更新時間:2026-09-20
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日陶(NIKKATO)創立于1908年,總部位于日本大阪堺市,是全球精密工業陶瓷領域的百年企業。品牌以高純工業陶瓷、研磨介質、高溫耐火構件、熱處理設備及測溫組件為核心業務,長期為MLCC、鋰電池粉體等制造領域提供關鍵耗材。
在研磨介質領域,日陶形成了氧化鋯球、氧化鋁球、氮化硅球三大產品線,覆蓋從納米級超細研磨到工業粗磨的全場景需求。其中,氧化鋯球采用東曹(TOSOH)提供的釔穩定氧化鋯粉體制造,氧化鋁球和氮化硅球則由日陶自主完成粉體配方與燒結工藝。
日陶研磨介質按材質與純度形成清晰的梯度體系,以匹配不同行業的污染控制要求和研磨強度需求。
| 產品系列 | 代表型號 | 材質 | 核心定位 |
|---|---|---|---|
| 氧化鋯球 | YTZ / YTZ-S / YTZ-GH | Y-TZP(ZrO?≥94.7%) | 高密度、高韌性,納米級研磨主力 |
| 氧化鋁球(高純級) | SSA-999W / SSA-999S | Al?O?≥99.9% | 零金屬污染,電子/半導體 |
| 氧化鋁球(高純入門) | SSA-995 | Al?O?≥99.5% | 純度與成本平衡 |
| 氧化鋁球(通用級) | HD / HD-11 / HD-2 | Al?O? 92–93% | 經濟型粗磨與干式研磨 |
| 氮化硅球 | SUN-11 / SUN-15 | Si?N?≥90% | 非氧化物物料研磨,抗熱沖擊 |
YTZ-5.0(φ5.0mm)是日陶YTZ系列中出貨量最大的規格之一,定位于中等硬度至硬質物料的大批量精細研磨。φ5.0mm的粒徑在研磨效率與出料細度之間取得良好平衡——相比φ1mm以下微球,單顆沖擊力更強、粉碎效率更高;相比φ10mm以上大球,研磨接觸點更密集、出料粒度更細。對高粘性物料的濕式粉碎和分散尤為有效。
核心參數:密度6.0 g/cm3,維氏硬度1250 HV10,抗彎強度1200 MPa,斷裂韌性6.0 MPa·√m,空磨磨損率0.4 ppm/h,球形度≥99%。主要應用于MLCC介質粉中細磨、固態電池正負極材料分散、磁性材料及精細陶瓷研磨。
YTZ-S是YTZ系列的高性能增強版本,采用HIP熱等靜壓工藝消除內部氣孔,維氏硬度提升至1280 HV10,空磨磨損率降至0.3 ppm/h以下,球形度達到99.5%以上。超微粒徑覆蓋φ0.03mm、φ0.05mm、φ0.1mm、φ0.2mm等規格,專為納米級超細研磨與分散設計。
其中φ0.05mm規格在同等體積下的填充數量是φ0.5mm球體的1000倍,可在高能量砂磨機中形成數以百萬計的研磨接觸點,實現小于100納米的均勻粉碎。主要應用于MLCC介質粉納米分散、半導體CMP拋光漿料制備、鋰電池固態電解質納米化以及注射用納米藥物制備。
YTZ-GH是日陶針對制藥行業推出的專用研磨介質,遵循GMP等效體系生產,全程可追溯。該型號具有高生物安全性,適用于注射劑等非經口醫藥產品的原料處理,以及氣溶膠產品的研磨分散。其高純度、光滑表面和良好耐磨損性,保障了藥物研磨過程中不引入影響安全性的雜質。
SSA-999W是日陶氧化鋁球產品線中的最高純度等級,Al?O?純度達到99.9%以上(可達99.99%),雜質總量控制在100ppm以內,且對鈾、釷放射性元素實施嚴格管控。密度3.9 g/cm3,維氏硬度1800 HV10,抗彎強度450 MPa,磨耗率僅15ppm/h,壽命超8000小時。
其核心價值在于零金屬污染——不引入鐵、硅、鋯等對電子材料有害的雜質。φ1–10mm規格定位于微米級精細研磨,φ15–25mm規格適用于中粗磨批量研磨。主要應用于MLCC介電材料、半導體封裝填料、鋰電池正極材料、稀土熒光粉以及醫藥食品級研磨。
SSA-995以Al?O?純度99.5%定位在高純系列的入門位置,密度3.8 g/cm3,硬度1500 HV10,壓縮強度3000 MPa。在純度與成本之間取得良好平衡,適用于電子陶瓷基板、精細化工等對污染敏感但預算適中的中端研磨場景。
HD系列(Al?O? 92–93%)是日陶氧化鋁球的基礎產品線,包含HD(通用型)、HD-11(高強度型)和HD-2(干式專用型)三個型號。HD兼顧韌性與耐磨,適用于陶瓷原料和礦物粗磨;HD-11強度升級,適合瓷磚、釉料等高負荷研磨;HD-2專為干法研磨設計,在無水工況下耐磨穩定。粒徑覆蓋φ0.5–60mm全規格。
SUN-11是日陶氮化硅球的核心型號,Si?N?含量≥90%,以優異的抗熱沖擊性和高硬度為特征,專用于氮化硅、碳化硅等非氧化物原料以及高性能材料的研磨與分散。在新能源領域,SUN-11用于硅碳負極、高鎳三元正極及固態電解質(LLZO)的無鐵雜質超細研磨,實現零異相污染。
MLCC介質層厚度持續減薄至亞微米級別,對鈦酸鋇等介電粉體的粒徑分布和污染控制要求極為嚴苛。日陶YTZ系列(尤其是YTZ-S微珠)用于介質粉的納米級分散,將BaTiO?研磨至亞微米乃至納米級別。SSA-999W則用于對Zr污染敏感的場景,以99.9%以上的Al?O?純度從源頭切斷金屬污染路徑。YTZ球已成為日系MLCC大廠的標配研磨介質。
日陶研磨介質覆蓋鋰電池材料制備的全工序鏈。YTZ-5.0用于正極材料(NCM、LFP)和負極材料的中細磨,YTZ-S微珠用于固態電解質和硅碳負極的納米化處理,SUN-11氮化硅球用于對鐵雜質零容忍的硅碳負極超細研磨。SSA-999W則用于NCM/LFP正極漿料細化,可將D50控制在1μm以下。
在芯片制造的化學機械拋光(CMP)工藝中,日陶YTZ-S微珠用于制備氧化鋯拋光漿料,先進制程要求晶圓表面粗糙度低于0.2納米。SSA-999W用于半導體封裝填料的研磨,保障封裝材料的介電性能。日陶的氧化鋁保護管和熱電偶同時服務于半導體制造中的高溫熱處理工序。
YTZ-GH醫藥級氧化鋯球專為GMP級藥物研磨設計,適用于注射劑和吸入制劑原料的納米混懸液制備。日陶研磨介質從原料到成品具有完整批次追溯體系,制造過程不使用重金屬和溶劑,符合醫藥行業對研磨介質衛生安全性的嚴格要求。
在涂料和油墨行業,YTZ系列承擔高粘度物料的濕式粉碎與分散。φ1.5mm規格適合涂料、油墨等中等精度研磨,φ0.2mm微球用于高檔油墨和納米涂料的解聚。HD系列則用于對純度要求相對寬松的顏料和礦物填料的粗磨。
日陶不僅提供研磨介質,還提供完整的精密陶瓷制品線:高純氧化鋁坩堝(CP/CPK-33系列)用于貴金屬熔煉和粉體燒結,使用溫度1600–1800℃;氧化鋯坩堝ZR-Y系列適用于固態電解質和TGA熱分析,最高耐溫1800℃;SA/SA-H高純氧化鋁管耐溫1700℃,用于管式爐和熱電偶保護套管;SSA-S絕緣管用于電爐、熱處理設備的高溫絕緣保護。
| 應用場景 | 型號 | 關鍵理由 |
|---|---|---|
| MLCC介質粉納米分散 | YTZ-S φ0.05–0.2mm | 高球形度,納米級均勻研磨 |
| MLCC介質粉(Zr敏感場景) | SSA-999W φ1–5mm | 零Zr污染,純度≥99.9% |
| 鋰電正極粗磨/中磨 | YTZ-5.0 / YTZ-8 | 高密度高沖擊力,效率優先 |
| 硅碳負極/固態電解質 | SUN-11 / YTZ-S | 零鐵雜質,非氧化物物料適配 |
| 半導體CMP漿料 | YTZ-S φ0.05mm | 超微粒徑,球形度 |
| 注射用納米藥物 | YTZ-GH | GMP級,全程可追溯 |
| 涂料/油墨高粘度分散 | YTZ-1.5 / YTZ-5.0 | 高密度克服粘度阻力 |
| 陶瓷原料粗磨 | HD / HD-11 | 經濟型,韌性好 |
| 干式粉碎 | HD-2 | 專為干法設計,耐磨穩定 |
日陶研磨介質的選型核心邏輯在于污染控制等級與研磨能量需求的匹配:追求零金屬污染的電子/醫藥場景優先選擇SSA-999W或YTZ-GH;追求高研磨效率的粗磨/中磨場景選擇YTZ-5.0及以上大粒徑規格;納米級超細分散則依賴YTZ-S微珠系列。日陶通過氧化鋯、氧化鋁、氮化硅三大材質和從φ0.03mm到φ60mm的完整粒徑覆蓋,形成了從實驗室研發到工業量產的全場景研磨解決方案。
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